İnce Film Anotlar

 


 İnce film teknolojisi, pil verimi arttırmak için nano yapılara sahip metalik/kompozit/alaşımlı anot malzemeleri üretmek için son yıllarda araştırma – geliştirme çalışmalarında sıkça kullanılan bir yöntemdir.

Yapılan çalışmalar incelendiğinde Fiziksel Buhar Biriktirme (FBB) ile 100nm kalınlıkta [24]; radyo frekanslı manyetik sıçratma ile 200 nm [25], 250nm [26] ve 500nm [27] kalınlıkta; vakum ortamında nano teller üzerine metal biriktirme yöntemi ile 500nm kalınlıkta [28] ve elektron demeti yöntemi ile 2μm [29] kalınlıkta silisyum ince filmlerin farklı çalışma grupları tarafından üretildiği görülmektedir.

Kullanılan çeşitli ince film üretim yöntemleri sadece metalik silisyum elde etmek için değil SnO2 [30], SnS [31], SnS/C [32], CuSn [33-35], CuSi [36, 37-38] ve Si1-xNx [39] gibi alaşım/kompozitlerin üretimi içinde kullanıldığı bilinmektedir.

 

Kaynaklar

https://www.metalurji.org.tr/dergi/dergi162/d162_4248.pdf


Yorumlar

Bu blogdaki popüler yayınlar

Dünyanın ilk 4. Nesil ısı pompası tanıtıldı!

Bağlantı Elemanları Serisi: 1-SOMUN

ERROR TYPES