İnce Film Anotlar
İnce film teknolojisi, pil verimi arttırmak
için nano yapılara sahip metalik/kompozit/alaşımlı anot malzemeleri üretmek
için son yıllarda araştırma – geliştirme çalışmalarında sıkça kullanılan bir
yöntemdir.
Yapılan
çalışmalar incelendiğinde Fiziksel Buhar Biriktirme (FBB) ile 100nm kalınlıkta
[24]; radyo frekanslı manyetik sıçratma ile 200 nm [25], 250nm [26] ve 500nm
[27] kalınlıkta; vakum ortamında nano teller üzerine metal biriktirme yöntemi
ile 500nm kalınlıkta [28] ve elektron demeti yöntemi ile 2μm [29] kalınlıkta
silisyum ince filmlerin farklı çalışma grupları tarafından üretildiği
görülmektedir.
Kullanılan
çeşitli ince film üretim yöntemleri sadece metalik silisyum elde etmek için
değil SnO2 [30], SnS [31], SnS/C [32], CuSn [33-35], CuSi [36, 37-38] ve
Si1-xNx [39] gibi alaşım/kompozitlerin üretimi içinde kullanıldığı
bilinmektedir.
Kaynaklar
https://www.metalurji.org.tr/dergi/dergi162/d162_4248.pdf
Yorumlar
Yorum Gönder